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2023年9月4日～5日に開催された表面技術協会第148回講演大会において、物質化学分野1年の山中　豪さん（新井・清水研究室）が学生優秀講演賞を受賞しました。学生優秀講演賞は、学生会員による講演の中から発表力、基礎・学術性、応用・発展性および新規性・独創性などを審査し、優秀な講演者5名以内を表彰するものです。今回（第148回講演大会）は93件の応募の中から5名が授賞しました。

【発表題目】ポリアクリル酸添加浴からの電位パルス電解法による銅三次元構造体創製

【発表者】〇山中　豪、堀田将臣、清水雅裕、新井　進

【研究概要】ポーラス（多孔質）金属は軽量金属材料として着目されているだけでなく、孔のサイズをナノメートルオーダーにまで微細化したナノポーラス金属は触媒材料等、様々な応用が期待されている。一般にナノポーラス金属は、合金材料から一方の金属を選択的に除去する方法（脱合金化）により作製される。当研究室ではポリアクリル酸を添加剤とするCuめっき浴から数十ナノメートルオーダーの内部空間を有するCuめっき膜が作製できることを報告し、さらに電位規制電解法（一般にめっき膜は電流規制電解法で作製する）を適用することにより、高精度で内部空間形状を造り分けられることを発表している。本研究では、陰極に印加する電位（カソード過電圧）が比較的小さい場合にナノポーラス形態となる一方、カソード過電圧が大きい場合には緻密な膜状形態になることに着目して、異なる電位を交互に印加する手法（電位パルス電解法）によるCu電析を行った。その結果、緻密な層と多孔質層が交互に積層された新規なCu三次元構造体が創製できることを見出した。当該構造体の三次元構造を明らかにするため、断面SEM観察だけでなく三次元SEM解析も実施した。また、電位パルス電解を50サイクル繰り返して作製した銅構造体は、緻密層と多孔質層が等間隔で周期的に積層された銅三次元構造体であることを明らかにした。本研究成果は、ナノポーラスCuが脱合金化のようなサブトラクティブ法（引き算法）ではなくアディティブ法（足し算法）により作製可能であることを示すだけでなく、その形状を厳密に制御できる手法として今後のさらなる発展が期待できる。

表面技術協会サイト
https://www.sfj.or.jp/meeting/148/award.html

学生優秀講演賞の授与式（賞状授与）は表面技術協会第149回講演大会期間中（令和6年3月6日（水））に行われる予定です。