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リモート対応型電子線マイクロアナライザー

メーカー
日本電子株式会社
機種
JA-iHP2000F
用途
分光・表面分析
リモート対応型電子線マイクロアナライザー

基本仕様

X線分光器WDS:5基、EDS:1基
分析元素範囲WDS:B~U、EDS:Be~U
最大試料寸法100x100x50(H)mm
加速電圧1~30kV
照射電流範囲1pA~3µA
照射電流安定度±0.3%/h、±1.0%/12h
二次電子分解能2.5nm
分析条件二次電子分解能20nm(10kV、10nA)、50nm(10kV、100nA)
走査倍率x40~3000000(W.D.11mm)

概要・用途(支援例等)

EPMA (Electron Probe Micro Analyzer)は、真空中で細く絞った電子線を試料表面に照射し、表面の組織や形態の観察と、発生する特性Ⅹ線を分析し、元素や定量値を得る装置です。Ⅹ線の検出には、エネルギー分散型分光器(EDS or EDX)と波長分散型分光器(WDS)があり、EPMAでは主にWDSを装備しています。
WDSのエネルギー分解能は数10eV程度であるため、含有元素のスペクトルがオーバーラップする可能性が低く、特性Ⅹ線スペクトルのP/B比が高いため、微量元素の検出限界は数10ppm程度に達します。(EDS or EDXのエネルギー分解能は、 130eV程度であり、微量元素の検出限界は  0.1%程度)
分析試料は、金属材料、地質鉱物、セラミックス、電子材料、半導体材料、高分子材料や食品等、多岐にわたります。装置に標準試料を用いて校正された感度曲線データが格納されているため、定性分析より簡易定量値を得ることができます。定性分析、定量分析、面分析(Mapping)、線分析が行えます。
当大学のEPMAは、電子銃に電界放出型電子銃(Fieled Emission Electron Gun)を搭載した「FE-EPMA」で、高倍率で空間分解能の高いSEM像と分析結果が得られます。

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