CVDダイヤモンド合成装置
精密触媒制御ナノカーボン合成・分析装置
- メーカー
- 株式会社アルバック
- 用途
- 薄膜 / ナノ調整加工
基本仕様
| システム構成 | 触媒形成用MBE、観察用高真空STM、CVD | |
|---|---|---|
| 基材搬送 | 高真空下半自動 | |
| MBE | ソース4種（Feなど） | |
| CVD最高温度 | ～1000℃ | |
| STM | 原子像観察可 |
概要・用途（支援例等）
この装置は先行事業ナノテクノロジープラットフォーム事業にて導入された設備であり、合成支援においてご利用いただける機材です。3種の機能（MBE、CVD、STM）を同じ真空容器の中に収納し、同一試料に対して数段階の連続処理を行うことができます。MBE装置は本来半導体材料などの単結晶を育成するものですが、現在はFe、Cu、Niのソースが充填されており、極薄の金属膜を形成することができます。CVDではメタンなどの反応が可能で、グラフェンなどの成長ができます。STM はグラフェン膜などの観察に加え、一般的な超高真空STMが必要な用途にご利用いただけます。
※合成支援で利用可
