手嶋　(論文：5)

論文

1. Katsuya TESHIMA*, Yasushi INOUE, Hiroyuki SUGIMURA, Osamu TAKAI:
   Growth and structure of silica films deposited on a polymeric material by plasma-enhanced chemical vapor deposition;
   Thin Solid Films, 420-421, 324-329 (2002)
2. Katsuya TESHIMA*, Yasushi INOUE, Hiroyuki SUGIMURA, Osamu TAKAI:
   Transparent silica films deposited by low-temperature plasma-enhanced CVD using hexamethyldisiloxane;
   Chemical Vapor Deposition, 8, 251-253 (2002)
3. Katsuya TESHIMA*, Yasushi INOUE, Hiroyuki SUGIMURA, Osamu TAKAI:
   Gas barrier properties of silicon oxide films prepared by plasma-enhanced CVD using tetramethoxysilane;
   Vacuum, 66, 353-357 (2002)
4. 手嶋勝弥*，青柳誠，彦坂眞一：
   トリメリット酸無水物のマイクロカプセルトナーの帯電安定性；
   日本化学会誌, 169-173 (2002)
5. 手嶋勝弥*，彦坂眞一：
   トリメリット酸無水物のマイクロカプセルトナー；
   日本化学会誌, 63-66 (2002)