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| 分類 |
研究テーマ |
研究者名 |
大学・機関名 |
キーワード |
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| 大学 |
コポリパラフェニレン -3,43,43,4’-オキシジフェニ レンテフタルアミド繊維の疲労特性 |
〇八木 駿, 蓬澤優也, 杉村要 他 |
京工繊大院 |
コポリパラフェニレン、テレフタルアミド繊維 |
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| 大学 |
β晶ポリプロピレンの延伸による構造変化に及ぼす結晶化温度の影響 |
○大竹秀法, 片庭端姫, 河井貴彦 他 |
群馬大院, 三菱樹脂 |
ポリプロピレン(PP)、結晶化 |
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| 大学 |
環状ポリオレフィンの融解挙動解析と物性評価 |
坂村拓映, ○祁可新, 上原宏樹 他 |
群馬大院, 東工大 |
ポリオレフィン、融解挙動、物性 |
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| 大学 |
PETの繊維構造形成過程における中間相の形成 |
○大根田俊, 小池直輝, 駒村高大 他 |
信州大, 東レリサー チセンタ, 東レ繊維研究所, 高エネルギー加速器機構 |
ポリエチレンテレフタレート(PET)、繊維構造 |
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| 大学 |
分子量分布と立体規則性がアイソタクチックポリプロピレン (iPP) 繊維の物性と構造に及ぼす影響 |
○國光立真, 豊田海伊, 金慶孝 他 |
信州大, ( 株)プライムポリ マー |
アタクチックポリプロピレン |
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| 大学 |
繊維・高分子材料と有機化合物の相互作用 繊維・高分子材料と有機化合物の相互作用 22. ポリマーフィルムの吸着特性 |
〇稲田文, 金澤等 |
福島大 |
フィルム、吸着 |
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| 大学 |
高圧二酸化炭素処理をしたポリ-L-乳酸の結晶構造転移過程における結晶の乱れの評価 |
○藤永悠, 赤坂修一, 浅井茂雄 |
東工大院 |
ポリ乳酸(PLLA PLA)、結晶構造 |
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| 大学 |
光学活性ポリメチレンの主鎖らせん反転現象 |
○相澤洋介, 戸木田雅利 |
東工大院 |
ポリメチレン |
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| 大学 |
メチレン鎖長の異なる半芳香族ポリアミド構造・物性に関する研究 |
〇田中佑弥, 山延健, 上原宏樹, 米山賢 |
群馬大院 |
半芳香族、ポリアミド |
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| 大学 |
電子求引性基を持つデヒドロベンゾアヌレ化合物の合成とクリック反応による高分子架橋へ 合物の成とクリッ反応による高分子架橋への応用 |
○武田直樹, 道信剛志 |
東工大院 |
電子求引性基、デヒドロベンゾアヌレン化合物 |
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| 大学 |
カルバゾージオキサン誘導体の合成と有機電界効果トランジスタへの応用 |
○巽大樹, 道信剛志 |
東工大院 |
電界効果トランジスタ |
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| 大学 |
オルトビフェノーとデカフルオロビフェニルの環化反応を利用するはしご状ポリエーテルの合成と性質 |
〇佐藤広賢, 大石好行, 芝崎祐二 |
岩手大 |
ポリエーテル |
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| 大学 |
ポリエチレングコール鎖中にグアナミン環状四量体を含むポリマーの合成と性質 |
〇星野結, 小滝智博, 大石好行, 芝崎祐二 |
岩手大 |
ポリエチレングリコール(PEG) |
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| 大学 |
末端にエチ ニル基を有するポリ（エトキシエチルグリシジエーテル）の合成とイプシロンカプロンカプロラクトンとの共重合 |
〇古 山夏帆, Eeseul Shin, Jaeeun Song |
岩手大, UNIST |
ポリ(エトキシエチルグリシジルエーテル)、イプシロンカプロラクトン |
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| 大学 |
N-メチルベンズアミド骨格を有するハーセメント及びポリエチレグコールから成るブロック共重合体の成及び性質 |
○森俊樹, 藤厚裕岩, 石好行, 芝崎祐二 |
岩手大, 埼玉大院 |
ポリエチレングリコール(PEG)、ブロックコポリマー(ブロック共重合体) |
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| 大学 |
アルキスホン化ポリイミド主鎖一軸配向膜のライオトロピック液晶構造解析 |
○後藤崚介, 原光生, 長尾祐樹, 永野修作 |
名大院, 名大, 北陸先端大 |
液晶、ポリイミド |
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| 大学 |
酸化グラフェンが形成する液晶の階層的不均一性 |
〇春藤淳臣, 堀耕一郎, Penaloza Penaloza , P. David |
九大院, KAIST |
液晶、グラフェン、粒子追跡法 |
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ダブルネットワークイオンゲルにおける潤滑挙動解析 |
○荒船博之, 上條利夫, 森永隆志 他 |
鶴岡高専 |
ゲル、イオン液体、潤滑挙動 |
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| 大学 |
High thermal stability microcapsule and its application in phase change materials (PCMs) as crosslinking point |
○毛宇辰, 宮崎琢弥, 細谷亨平 他 |
山形大院, 東華大 |
マイクロカプセル、ゲル、プラスチック、繊維材料 |
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| 大学 |
セルロース水酸化ナトリウム溶液からのイオン除去による光学異方性ゲル形成 |
○古賀優佳, 巽大輔 |
九大院 |
セルロース、ゲル、小角X線散乱 |
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