スメクチック液晶エラストマーにおける変形履歴の記憶

応力印加過程の異なる2つのキラルスメクチックC(SmC)エラストマー[架橋反応時にせん断力を印加し分子の傾く方向を揃えることで均一配向させた試料(以下、せん断変形試料)と、2段階の1軸延伸により均一配向させた試料(2段階延伸試料)]を用意し、昇降温における形状変化を定量的に評価するとともに、X線回折により分子再配列の解析を行った。

繊維研究機関技術シーズ調査（2013年度）/日本化学繊維協会

研究者名	○平岡一幸，持田耕平，森河健二
大学・機関名	東京工芸大学

キーワード

液晶、変形履歴、エラストマー

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