【装置】日本電子製
【二次電子分解能】1.5nm (30kV)、5nm(5kV)
・反射電子像(組成像)、凹凸像観察可
・EDSによる定性分析、マッピング可能
SEMは電子銃で作られた電子線束を電子レンズ(集束・対物レンズ)で集束させて偏向コイルで2次的に試料表面を走査し、試料面から発生する2次電子をシンチレータで検出して操作像を得ます。
本共用装置の電界放射型(FE)SEMは電子銃の輝度が極めて高いため、一般のSEMよりも高分解能の像を得ることができます。さらに本装置にはEDSが装着されているので定性分析も可能です。