信州大学医学部歯科口腔外科
Department of Dentistry and Oral Surgery, Shinshu University School of Medicine
第4回信州SAS研究会
（2004年2月21日、松本市）
（2004年2月21日、松本市）
OSASに対する軟口蓋高周波治療について中塚厚史、瀧沢 淳、室伏貴子、宮原貴彦、武井哲兵、林 清永、横地 恵、内山麻由子、倉科憲治
軟口蓋高周波治療は、今まで耳鼻咽喉科等で行われてきた口蓋垂口蓋咽頭形成術(UPPP)等の外科治療と違い非常に低侵襲で行えるという利点がある。
高周波数治療装置としてアースロケア社製のENTECコブレーションシステムを使用している。軟口蓋に挿入する電極部は直径1.3mmで、出力形式はバイポーラである。
治療方法は、まず軟口蓋に歯科用表面麻酔剤にて表面麻酔を行う。その後局所麻酔薬のカートリッジ製剤であるエピネフリン添加2%リドカイン製剤を用いて軟口蓋中央の左右上下４カ所に局所麻酔を行う。そして同部位に電極を挿入する。挿入する際は、高周波電流を放射しながら行う。１カ所につき約10秒間放射する。つまり、麻酔後、１分以内で治療は終了する。通常、この治療を約１カ月の間隔を開け最低２回行う。
今回、当科でのコブレーションシステムを用いた治療経験について報告し、併せて口腔内装置との比較を報告する。