センターの特長

測定・分析評価設備と数値解析設備

各種の汎用測定・分析評価設備を完備した実験室やスーパーコンピュータシステムを用意し、参画機関による共同利用やレンタル利用ができるようにします。

スーパーコンピュータシステム

信州大に導入されたスーパーコンピュータシステム

アクア・イノベーション拠点のために導入されたのは、富士通製の「PRIMERGY RX100 S8」16台によるPCクラスタと、スーパーコンピュータ「PRIMEHPC FX10」を組み合わせたシステムです。これにより、従来は処理性能的に困難だったナノカーボン膜の複雑な解析やシミュレーションが可能になりました。個別の機器の性能は以下の通りです。

システムの構成 計算ノード数 全コア数 総メモリ容量
(バイト)
理論演算性能
(フロップス)
PRIMEHPC FX10
(スーパーコンピュータ)
12 192 384Giga 2.5Tera
PRIMERGY RX100 S8
(PCクラスタ)
16 256 4,096Giga 6.7Tera

共用の測定・分析評価設備

カーボン膜の評価や加工などに向け、35種類の測定・分析装置が新たに導入されましたが、このうち一部の機器が共用として関係機関や企業などに開放されます。

飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)

ICP質量分析装置

Auger分析装置

共用機器リスト

ご利用いただける共用機器は下のとおりです。

                                                                                                              
No.品名規格一般利用者機器使用料
(税込)
写真
1 ICP質量分析装置 アジレント・テクノロジー
G3663A/100 Agilent 8800
ICP-QQQ standard model
  学内利用のみ ICP質量分析装置
2 微小領域機械特性評価装置 オミクロン・ナノテクノロジー・ジャパン
ナノインデンテーション ハイジトロン トライボインデンター TI-950
  5,500円/h 微小領域機械特性評価装置
3 低圧細孔径分布測定装置 米国Porous Materials社
リキッドポロメーター LLP-1200A
  8,800円/h 低圧細孔径分布測定装置
4 ナノサイズ細孔径分布測定装置 西華産業
ナノパームポロメーター TNF-2W-100
  8,800円/h ナノサイズ細孔径分布測定装置
5 ガスクロマトグラフ
質量分析計
米国ブルカー・ダルトニクス社
SCION SQ(456-GC)-SH GC/MS
  6,000円/h ガスクロマトグラフ質量分析計
6 高速イオンクロマトグラフ 島津製作所
Prominence イオン分析システム HIC-SPNS
  6,000円/h 高速イオンクロマトグラフ
7 ガス透過率測定装置 ジーエルサイエンス
システムガスクロマトグラフ GTME-2520(等圧法)
  6,000円/h ガス透過率測定装置
8 複合ビーム加工観察装置 日本電子
JIB-4610F ピックアップシステム付
  11,000円/h 複合ビーム加工観察装置
9 オージェ電子顕微鏡 日本電子
フィールドエミッションオージェマイクロプローブ JAMP-9510
  8,800円/h オージェ電子顕微鏡
10 飛行時間型二次イオン質量分析装置 独国ION-TOF社
TOF.SIMS5-ADSD-100
  11,000円/h 飛行時間型二次イオン質量分析装置
11 自動接触角計 協和界面科学
DM-701M
  4,000円/h 自動接触角計
12 カーボンコーター メイワフォーシス
CADE-E/HSM 親水化処理機能付
  4,000円/h カーボンコーター
13 自動精密切断機 日本電子
アイソメット 11-1280-001
  4,000円/h 自動精密切断機
14 レーザラマン分光装置 堀場製作所
LabRAM HR evolution OS
お問い合わせください レーザラマン分光装置
15 比抵抗/ホール測定システム 東陽テクニカ
8400ACLR/OW型
お問い合わせください 比抵抗/ホール測定システム
16 高出力マイクロ波プラズマCVD装置 コーンズテクノロジー社
AX6350
お問い合わせください 高出力マイクロ波プラズマCVD装置
17 大気圧プラズマ装置 長野日本無線
NJZ-2820 XYステージ付
お問い合わせください 大気圧プラズマ装置
18 精密触媒制御ナノカーボン合成・分析装置 ULVAC
CMS-50
お問い合わせください 精密触媒制御ナノカーボン合成・分析装置
19 X線電子分光分析装置 アルバックファイ
QuanTeraⅡ
お問い合わせください X線電子分光分析装置

利用料金

利用料金は、下のとおりです。

                                                                                    
使用者利用料 操作料(技術サポート)試料作製解析料
一般利用者
(学外研究所、企業等)
共用機器リスト参照 3,300円/h5,500円/h5,500円/h
当センター内
レンタルスペース入居者
1,080円/h 3,300円/h5,500円/h5,500円/h
学内者
(学内教職員)
1,080円/h 機器による
(要問い合わせ)
機器による
(要問い合わせ)
機器による
(要問い合わせ)
    

・初回利用時は、機器専門員の立会必須のため、操作料(技術サポート料)が必ず発生します。
・全て税込価格です。

 

利用申請・お問い合わせ

利用をご希望の場合は、「利用申請書(学内者用)」、「利用申請書(学外者用)」いずれかへご記入の上、PDFにて下記のメールアドレスへ送信ください。
また、その他問い合わせにつきましても、下記のメールアドレスまでお願いいたします。
なお、整備中等により、使用できない場合もございますので、あらかじめご了承ください。
        

利用申請書送付・お問い合わせ先
メールアドレス coi_info@shinshu-u.ac.jp

その他、長野(工学)キャンパスでご利用になれる共用機器

 

<研究基盤共用事業>
   http://www.shinshu-u.ac.jp/institution/icst/kyoyo/equip/

   

<ナノテクノロジー・プラットフォーム事業>
   http://www.shinshu-u.ac.jp/institution/icst/nano/equip/      
    
   

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